高低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～180℃），MG20-20實(shí)現高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達到±0.1℃， 應用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

產(chǎn)品特點(diǎn)

> PID精密恒溫控制系統，精密恒溫控制系統，恒溫波動(dòng)度±0.1℃，適用于高至195℃，低-20℃的化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制等；

> 單點(diǎn)溫度校準和電位器校正，溫度數據更可靠；

> 壓縮機，噪音低，制冷效率高；

> 制冷相關(guān)配件采用進(jìn)口品牌，性能穩定且壽命長(cháng)；

> 制冷系統具備高壓保護器，確保制冷系統安全；

> 全封閉高低溫磁力泵循環(huán)攪拌，溫場(chǎng)均勻，免除泄露和異常噪音；

> 具備傳感器開(kāi)路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；

可選附件

> 可選配RS485通訊接口；

> 可選配嵌入式不銹鋼蓋，用于更緊湊的空間需求；

> 可選配SUS304液槽隔板，用于浸入式實(shí)驗需求；

安全保護裝置

> 具有斷電記憶功能；

> 溫度上下限制保護和報警功能；

> 三重溫度保護，高低溫限制保護，加熱限制保護；

應用范圍

石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

高低溫恒溫循環(huán)槽技術(shù)參數

備注：加熱制冷循環(huán)器所有技術(shù)參數均為標準配置參數，涉及溫度波動(dòng)度、壓力、流量、制冷功率、加熱功率等詳細技術(shù)參數也可以向相應銷(xiāo)售索??；若客戶(hù)對設備壓力、流量、外循環(huán)等特別要求或高精度恒溫控制，我公司可以根據實(shí)際的需求做非標定制化處理。

更多關(guān)于加熱制冷循環(huán)器/加熱制冷循環(huán)槽的設備信息，可以訪(fǎng)問(wèn)吉米諾網(wǎng)站.